原子层沉积技术及其创新运用

• 作者: 于明岩 施云波 赵士瑞 饶志鹏
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 化学
• 关键词: 原子层沉积 等离子体增强型原子层沉积 原位掺杂 TiO2-xNx
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 纳米技术
• 页码范围: 328-333
• 分类号: O641
• 语种: 中文
• DOI: 10.13494/j.npe.20140011

摘要

本文分析并总结了涉及原子层沉积(atomic layer deposition,ALD)技术基本原理的若干问题.介绍了等离子增强原子层沉积(plasma enhanced atomic layer deposition,PEALD)技术的优势及常见运用.相对于传统ALD系统,PEALD最大的特点在于其能够通过等离子体放电来活化前驱体源,提高对前驱体源,尤其是气态源的利用.利用PEALD这一特点可以增加传统ALD技术中可用氮源的种类.同时PEALD原位掺杂作为一种掺杂方法能够用于对光催化材料的掺杂改性,提高其光催化性能.此外,PEALD技术还适用于温度敏感材料和柔性材料上的薄膜沉积,可以获得更低的电阻率和更高的薄膜密度等.本文重点介绍了本课题组提出的PEALD原位掺杂技术及其对TiO2光催化剂的掺杂改性运用.最后对原位掺杂技术的研究方向和发展进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	施云波	哈尔滨理工大学测控技术与通信工程学院测控技术与仪器黑龙江省高校重点实验室	54	262	9.0	12.0
2	于明岩	哈尔滨理工大学测控技术与通信工程学院测控技术与仪器黑龙江省高校重点实验室	2	11	2.0	2.0
6	饶志鹏	中国科学院微电子研究所中国科学院微电子器件与集成技术重点实验室	3	18	2.0	3.0
7	赵士瑞	中国科学院微电子研究所中国科学院微电子器件与集成技术重点实验室	1	5	1.0	1.0