Al掺杂ZnO紫外探测器的快速响应技术

• 作者: 刘浩 贾卓 邓宏 邓意峰
• 来源期刊: 太赫兹科学与电子信息学报
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 Al掺杂 紫外探测器
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 电磁场与微波
• 页码范围: 771-774
• 页数: 4页
• 分类号: TN23
• 字数: 2378字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11805/TKYDA201405.0771

摘要

通过交变电场下的紫外光响应测试，观察到ZnO基薄膜在254nm紫外光激发下的慢响应现象，并测量了响应时间常数。为提高 ZnO 基薄膜紫外探测器的性能，采用磁控溅射法，制备了纯ZnO薄膜和掺Al浓度为10 at.%(原子比例)的ZnO薄膜紫外探测器，测量了样品的频率特性曲线。结果表明，Al掺杂能有效地抑制 ZnO薄膜的慢响应，实现探测器对紫外光的响应时间常数τ<25μs的快速响应。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓宏	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	72	653	14.0	22.0
2	邓意峰	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	2	5	2.0	2.0
3	刘浩	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	6	20	3.0	4.0
4	贾卓	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	3	11	2.0	3.0