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制备工艺对掺铕的钨酸钙薄膜发光性能的影响
制备工艺对掺铕的钨酸钙薄膜发光性能的影响
作者:
曹俊
陈贻斌
陈连平
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
钨酸钙
铕
溅射
薄膜
发光性能
摘要:
采用射频溅射法在硅片上沉积了Ca0.98WO4∶Eu0.02薄膜,利用正交试验研究了溅射时间、气压和功率对Ca0.98WO4∶Eu0.02薄膜的红光(615 nm)发光强度的影响。荧光分析表明,溅射法沉积的Ca0.98WO4∶Eu0.02薄膜需在700~800℃热处理后才能强烈地表现出Eu3+离子的特征发光行为;正交试验说明,溅射气压、时间和功率对薄膜的发光强度都有重要影响,溅射气压的影响尤为重要。研究还表明,为提高发光强度,溅射气压宜控制在1.0 Pa左右,溅射时间在160 min。
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内容分析
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关键词热度
相关文献总数
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文献信息
篇名
制备工艺对掺铕的钨酸钙薄膜发光性能的影响
来源期刊
中国钨业
学科
工学
关键词
钨酸钙
铕
溅射
薄膜
发光性能
年,卷(期)
2014,(2)
所属期刊栏目
冶金?材料
研究方向
页码范围
24-27
页数
4页
分类号
TB383|TF804.3
字数
3616字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1009-0622.2014.02.006
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
陈连平
江西理工大学材料科学与工程学院
11
18
3.0
3.0
2
陈贻斌
江西理工大学材料科学与工程学院
4
7
2.0
2.0
3
曹俊
江西理工大学材料科学与工程学院
5
11
2.0
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传播情况
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参考文献(0)
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引证文献(3)
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引证文献(0)
二级引证文献(1)
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节点文献
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铕
溅射
薄膜
发光性能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国钨业
主办单位:
中国钨业协会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1009-0622
CN:
11-3236/TF
开本:
大16开
出版地:
江西赣州经济开发区迎宾大道62号赣州有色冶金研究所301室
邮发代号:
创刊时间:
1986
语种:
chi
出版文献量(篇)
2035
总下载数(次)
3
总被引数(次)
9213
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