脉冲电压对HPPMS制备CrN薄膜的组织结构与力学性能的影响

• 作者: 夏飞 张栋 枢培玲 汪爱英 王启民 邹长伟
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 高功率脉冲磁控溅射 脉冲电压 CrN薄膜 组织结构 硬度
• 年，卷（期）: 2014,（10）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 1035-1039
• 分类号: TB71-2
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2014.10.06

摘要

采用复合高功率脉冲磁控溅射技术在单晶Si片、高速钢和玻璃上制备CrN薄膜.分别研究了脉冲电压在500,600,700,750 V时对薄膜的组织结构和力学性能的影响.结果表明,随着脉冲电压的增加,靶材离化率增加,靶电流以及溅射原子离子数量级能量均增大,使得沉积的薄膜组织结构更加致密,晶粒逐渐细化,表面更加光滑,硬度提高.高功率脉冲磁控溅射技术具备了磁控溅射技术制备的薄膜表面光滑优势,以及电弧离子镀高离化率特点,获得了结构性能优异的CrN薄膜.