多孔氧化铝薄膜的光致发光起源：三种缺陷中心?

• 作者: 张雅晶 李国栋 王倩 邓保霞
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 多孔氧化铝薄膜 光致发光中心 缺陷机理 杂质控制
• 年，卷（期）: 2014,（24）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 247802-1-247802-8
• 页数: 1页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.63.247802

摘要

在草酸溶液中用二次阳极氧化法制备了纳米多孔氧化铝薄膜,分析了制备过程中氧化铝薄膜中缺陷的形成机理.场发射电子显微镜给出了薄膜的表面形貌和结构.X射线色散能谱和傅里叶红外透射光谱测试表明,进入薄膜中的草酸杂质加热到500?C未全部分解.对多孔氧化铝薄膜的光致发光PL光谱做了高斯拟合,结合测试结果和薄膜中的缺陷分析指出：多孔氧化铝薄膜的发光由F+,F和草酸杂质相关缺陷引起,对应发光中心分别在402,433,475 nm处,并提出F中心起主导作用.对不同草酸浓度中制备的多孔氧化铝薄膜的PL光谱讨论指出：随草酸浓度增加,三种发光中心的峰位不会发生变化,但相对强度发生改变,F+中心和F中心减少,草酸杂质相关发光中心增加, PL峰红移.最后提出通过控制草酸浓度来控制多孔氧化铝薄膜中的草酸杂质.此研究将对多孔氧化铝薄膜发光起源和机理有更深入的理解,同时也为多孔氧化铝薄膜的制备提供一种全新的思路.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王倩	新疆大学物理科学与技术学院	67	109	6.0	8.0
2	邓保霞	新疆大学物理科学与技术学院	5	4	2.0	2.0
3	李国栋	新疆大学物理科学与技术学院	5	5	2.0	2.0
4	张雅晶	新疆大学物理科学与技术学院	3	2	1.0	1.0