基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
在不同温度条件下对Cd0.9Zn0.1Te晶片进行In气氛退火热处理,显著提高了Cd0.9Zn0.1Te材料的电阻率.通过实验测量和理论建模计算,得到了1 073、1 023和973 K条件下In原子在Cd0.9 Zn0.1Te晶片中的扩散系数分别为4.25×10-9 cm2·s-1、9.02×10-10 cm2·s-1和2.17×10-10 cm2·s-1,并且拟合出了1 073~973 K范围内扩散系数和温度之间的函数关系表达式D(T)=2.15×exp(-1.9/k0T)及频率因子D0等数据.最后,对实验结果进行了简要的对比和分析解释.
推荐文章
Cd0.9Zn0.1Te晶体的Cd气氛扩散热处理研究
Cd0.9Zn0.1Te
热处理
Cd气氛
扩散系数
稀释磁性半导体Cd0.9Mn0.1Te晶体的退火改性
Cd0.9Mn0.1Te晶体
点缺陷
退火
Te沉淀相
结晶质量
溶剂熔区移动法生长In∶Cd0.9Zn0.1Te晶体的性能研究
溶剂熔区移动法
Cd0.9Zn0.1Te
红外透过率
光致发光
溶剂熔区移动法制备Cd0.9Zn0.1Te晶体及性能研究
溶剂熔区移动法
Cd0.9Zn0.1Te
红外透过率
PICTS
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 In气氛退火对Cd0.9 Zn0.1Te材料电阻率的影响研究
来源期刊 半导体光电 学科 工学
关键词 碲锌镉 电阻率 铟扩散 退火 扩散系数
年,卷(期) 2014,(5) 所属期刊栏目 材料、结构及工艺
研究方向 页码范围 846-849
页数 分类号 TN305.4
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 何凯 中国科学院上海技术物理研究所中国科学院红外成像材料与器件重点实验室 22 148 5.0 11.0
2 盛锋锋 中国科学院上海技术物理研究所中国科学院红外成像材料与器件重点实验室 3 6 1.0 2.0
3 隋淞印 中国科学院上海技术物理研究所中国科学院红外成像材料与器件重点实验室 3 6 2.0 2.0
4 华桦 中国科学院上海技术物理研究所中国科学院红外成像材料与器件重点实验室 3 5 1.0 2.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (10)
参考文献  (9)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1992(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1999(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2001(4)
  • 参考文献(4)
  • 二级参考文献(0)
2002(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2006(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2014(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
碲锌镉
电阻率
铟扩散
退火
扩散系数
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体光电
双月刊
1001-5868
50-1092/TN
大16开
重庆市南坪花园路14号44所内
1976
chi
出版文献量(篇)
4307
总下载数(次)
22
论文1v1指导