光诱导液相沉积 Ni/Cu 应用于晶硅电池栅线的制备

• 作者: 刘邦武 夏洋 宁婕妤 李超波
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 化学
• 关键词: 镍膜 铜膜 光诱导电沉积 表征 制备
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 工艺??技术
• 页码范围: 1147-1152
• 页数: 6页
• 分类号: O64
• 字数: 3938字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2014.01.033

摘要

采用光诱导液相沉积(LIP)的方法制备了Ni、Cu 薄膜,并进一步讨论了沉积温度等相关因素对薄膜成分与形貌的影响.采用 X 射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)、四探针测试仪等分别对薄膜的成分、形貌、电阻率、非均匀性等进行表征.结果显示,制备的 Cu 膜电阻率为1．87×10-8Ω??m,非均匀性为2．64％.此外,将制备的 Ni/Cu 工艺应用于制备晶硅电池的栅线电极,用 I-V 测试仪测试电池参数,填充因子高达77．8％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏洋	中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室	67	325	9.0	14.0
2	李超波	中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室	31	120	7.0	9.0
3	刘邦武	中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室	17	96	6.0	8.0
4	宁婕妤	中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室	2	4	1.0	2.0