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高创新产品忆阻器技术机理探讨
高创新产品忆阻器技术机理探讨
作者:
于凌宇
刘夏飞
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
忆阻器
记忆元件
材料
结构
技术机理
科技革命
摘要:
该文阐述了忆阻器的内涵,研究了其材料、结构及技术机理,探讨了它突破芯片技术极限,推动电子科技进步和电子工业腾飞的重大革命性和战略性意义。
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文献信息
篇名
高创新产品忆阻器技术机理探讨
来源期刊
工业技术创新
学科
工学
关键词
忆阻器
记忆元件
材料
结构
技术机理
科技革命
年,卷(期)
2015,(6)
所属期刊栏目
技术及创新
研究方向
页码范围
632-636
页数
5页
分类号
TN60
字数
5883字
语种
中文
DOI
10.14103/j.issn.2095-8412.2015.06.011
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
于凌宇
河南大学濮阳工学院
9
3
1.0
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2
刘夏飞
7
2
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1.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
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二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
忆阻器
记忆元件
材料
结构
技术机理
科技革命
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
工业技术创新
主办单位:
中国电子信息产业发展研究院
赛迪工业和信息化研究院有限公司
出版周期:
双月刊
ISSN:
2095-8412
CN:
10-1231/F
开本:
16开
出版地:
北京市海淀区紫竹院路66号赛迪大厦18层
邮发代号:
创刊时间:
2014
语种:
chi
出版文献量(篇)
1276
总下载数(次)
4
总被引数(次)
1926
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