立方氮化硼膜的研究进展与应用（上）

• 作者: 殷红 赵艳
• 来源期刊: 超硬材料工程
• 学科: 工学
• 关键词: 立方氮化硼 外延生长 综述 刀具涂层 半导体掺杂 表面功能化
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: 产业与综述
• 页码范围: 43-47
• 页数: 5页
• 分类号: TQ164
• 字数: 2385字
• 语种: 中文

摘要

立方氮化硼(c-BN)是一种高硬度、耐辐射、耐腐蚀、抗高温的宽禁带(Eg=6.4 eV)多功能材料，因其在机械、电子、物理化学等方面独特的性质，高品质 c-BN 薄膜、厚膜以及外延生长一直是材料科学等领域的研究热点和难点之一。文章对国内外 c-BN 薄膜的最新研究进展及多功能性应用等方面进行了系统的综述，提出了 c-BN 膜工业化亟待解决的基本问题，即结晶度差、内应力高、稳定度低等问题，并且详细介绍了 c-BN 膜在多功能应用领域里的研究进展。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵艳	吉林大学超硬材料国家重点实验室	9	16	2.0	4.0
2	殷红	吉林大学超硬材料国家重点实验室	10	35	4.0	5.0