掺钛 GZO 透明半导体薄膜的光学性质研究

• 作者: 钟志有 陆轴 龙路
• 来源期刊: 中南民族大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 掺杂氧化锌 透明半导体薄膜 光学常数
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 物理与电子信息科学
• 页码范围: 64-71
• 页数: 8页
• 分类号: TM914
• 字数: 4295字
• 语种: 中文

摘要

以钛掺杂氧化锌镓（ GZO）陶瓷靶作为溅射源材料，采用射频磁控溅射技术在玻璃基片上制备了掺钛GZO （ GZO：Ti）透明半导体薄膜，利用光谱拟合方法计算了GZO：Ti薄膜的折射度、消光系数和厚度等光学参数，研究了氩气压强对GZO：Ti 薄膜光学性质的影响。结果表明：拟合光谱曲线与实验测量光谱曲线一致，薄膜的光学性质与氩气压强密切相关，GZO：Ti薄膜折射率随波长增大而逐渐减小，表现出正常的色散性质。另外还采用包络法计算了GZO：Ti薄膜的折射率和厚度，两种方法所获得的结果是基本相符的。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟志有	中南民族大学电子信息工程学院	67	360	11.0	14.0
5	龙路	中南民族大学电子信息工程学院	11	55	4.0	7.0
6	陆轴	中南民族大学电子信息工程学院	19	78	6.0	8.0