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摘要:
建立了相同型号,不同结构的两种40.5 kV真空灭弧室的轴对称模型.计算并分析了两种真空灭弧室的主屏蔽罩对换前和对换后的电场分布和电势分布,对比了不同主屏蔽罩结构下的触头表面的有效面积,并分析了主屏蔽罩内表面的电场分布曲线.结果表明:型号相同的两个真空灭弧室内部电场分布及电势分布主要受到主屏蔽罩结构的影响,选择合适的主屏蔽罩结构可有效降低最大电场强度并改电场和电势分布.
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文献信息
篇名 两种40.5kV真空灭弧室电场和电势分布的对比研究
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 工学
关键词 真空灭弧室 Ansys 电场计算 电势分布 主屏蔽罩
年,卷(期) 2015,(7) 所属期刊栏目 电子器件
研究方向 页码范围 801-806
页数 分类号 TM561
字数 语种 中文
DOI 10.13922/j.cnki.cjovst.2015.07.03
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 董华军 大连交通大学机械工程学院 7 53 5.0 7.0
10 郭英杰 大连交通大学机械工程学院 8 29 3.0 5.0
14 康凯 大连交通大学机械工程学院 5 19 3.0 4.0
16 段文宇 大连交通大学机械工程学院 2 7 2.0 2.0
17 郭方准 大连交通大学机械工程学院 22 70 5.0 7.0
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真空科学与技术学报
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大16开
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
1981
chi
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