宽波段全息-离子束刻蚀光栅的设计及工艺

• 作者: 于海利 吴娜 张方程 谭鑫
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 全息光栅 宽波段光栅 离子束刻蚀 刻蚀模拟
• 年，卷（期）: 2015,（7）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 1978-1983
• 页数: 6页
• 分类号: O436.1
• 字数: 2506字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20152307.1978

摘要

设计和制作了一种在同一基底上具有多闪耀角的宽波段全息-离子束刻蚀光栅.提出了组合形成宽波段全息-离子束刻蚀光栅的分区设计方法,优化了3种闪耀角混合的宽波段全息光栅设计参数,并利用反应离子束刻蚀装置对该光刻胶掩模进行刻蚀图形转移,采用分段、分步离子束刻蚀技术开展了获得不同闪耀角的离子束刻蚀实验.最后在同一光栅基底上分区制作了位相相同,并具有9,18,29°3个不同闪耀角,口径为60 mm×60 mm,使用波段为200～900 nm的宽波段全息光栅.衍射效率测试结果显示其在使用波段的最低衍射效率超过30％,最高衍射效率超过50％,实验结果与理论计算结果基本符合.与其它方式制作的宽波段光栅相比,采用宽波段全息离子束刻蚀光栅不但工艺成熟,易于控制光栅槽形,而且光栅有效面积尺寸较大,便于批量复制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张方程	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	5	19	2.0	4.0
2	谭鑫	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	16	55	4.0	7.0
3	吴娜	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	20	91	6.0	9.0
4	于海利	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	22	92	7.0	9.0