MPCVD法同质外延生长单晶金刚石技术概述

• 作者: 张嵩 徐永宽 程红娟 陈建丽
• 来源期刊: 炭素技术
• 学科: 化学
• 关键词: 微波等离子体 化学气相沉积 单晶金刚石 同质外延
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: 综合述评
• 页码范围: 11-16
• 分类号: O613.71
• 语种: 中文
• DOI: 10.14078/j.cnki.1001-3741.2015.06.003

摘要

单晶金刚石具有极其优异的性质,如高热导率、高载流子迁移率和高的击穿电压,是制作高可靠性、高稳定性微波功率器件和探测器的理想材料,金刚石基器件可以应用于高温、高功率、强辐射的恶劣环境中.针对金刚石在电学领域与探测领域的潜在应用价值,发展高品质金刚石单晶生长技术尤为重要,而金刚石应用的首要问题是解决单晶和成本的问题.微波等离子化学气相沉积是实现低成本、大尺寸单晶金刚石生长的有效技术.对于如何提高单晶金刚石的生长速率,如何获得高质量、大尺寸单晶金刚石的问题,本文阐述了国内外微波等离子化学气相沉积法同质外延生长单晶金刚石技术研究方面取得的重要突破,详细介绍了提高MPCVD单晶金刚石沉积速率、金刚石晶片剥离技术、金刚石晶体三维生长扩大尺寸、金刚石单晶“马赛克”生长技术.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程红娟	中国电子科技集团公司第四十六研究所	44	47	4.0	5.0
2	徐永宽	中国电子科技集团公司第四十六研究所	28	57	4.0	6.0
3	陈建丽	中国电子科技集团公司第四十六研究所	5	8	1.0	2.0
4	张嵩	中国电子科技集团公司第四十六研究所	7	5	1.0	1.0