KrF脉冲激光退火制备锐钛矿TiO2薄膜

• 作者: 吴正云 张志威 张自锋 洪荣墩 陈厦平
• 来源期刊: 量子电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 KrF脉冲激光 薄膜 TiO2 光学特性
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 所属期刊栏目: 激光技术与器件
• 页码范围: 673-677
• 分类号: TB303
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-5461.2015.06.006

摘要

在常温下,用射频磁控溅射在石英衬底上沉积厚度约为200 nm的TiO2薄膜,使用波长为248 nm的KrF脉冲激光器,在不同功率密度下对薄膜样品进行辐照退火处理,并采用X射线衍射(XRD)、拉曼(Raman)、X射线电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)、高分辨率扫描隧道显微镜(HRTEM)以及选择区域电子衍射(SAED)、紫外可见分光光度计等方法分析不同激光功率密度退火对TiO2薄膜的结构、表面形貌和透射率等性能的影响.结果表明当激光功率密度为0.5 J/cm2时,可获得高质量的锐钛矿TiO2薄膜,当继续增大光功率密度时,TiO2薄膜变为(1 1 0)取向的金红石相,其薄膜表面粗糙度也相应增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴正云	厦门大学物理系	33	190	7.0	12.0
2	洪荣墩	厦门大学物理系	4	5	2.0	2.0
3	陈厦平	厦门大学物理系	12	59	5.0	7.0
4	张自锋	厦门大学物理系	1	2	1.0	1.0
5	张志威	厦门大学物理系	1	2	1.0	1.0