磁控溅射Pd膜对Zr70Fe5.4V24.6合金吸/放氢性能的影响

• 作者: 寇宏超 张云龙 张眯 张铁邦 李金山 胡锐 薛祥义
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 储氢合金 磁控溅射 Pd膜 吸氢动力学 吸氢量
• 年，卷（期）: 2015,（1）
• 所属期刊栏目: 材料工艺
• 页码范围: 199-203
• 页数: 5页
• 分类号: TG139+.7
• 语种: 中文

摘要

采用磁控溅射技术在Zr70Fe5.4V24.6(质量分数,％,下同)合金基体上沉积Pd膜.研究磁控溅射沉积Pd膜的生长特性和显微组织及Pd膜对Zr70Fe5.4V24.6合金吸/放氢性能的影响规律.结果发现,在Zr70Fe5.4V24.6合金基体上磁控溅射沉积的Pd膜具有fcc结构并在(111)晶面有明显的择优取向.对镀膜后合金吸/放氢性能的测试结果表明,磁控溅射沉积Pd膜对Zr70Fe5.4V24.6合金的活化性能及吸氢动力学无显著影响.沉积Pd膜后Zr70Fe5.4V24.6合金可逆吸氢量H/A由0.63增至1.20,吸氢平台增长量约为90％.氢化物形成焓绝对值的平均值增大约77％,生成熵的平均值增大约56％,沉积Pd膜后的合金与氢结合所形成的氢化物更稳定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李金山		272	2047	21.0	32.0
2	胡锐		173	1345	20.0	28.0
3	寇宏超		144	1064	17.0	26.0
4	薛祥义		51	338	11.0	16.0
5	张铁邦		50	336	9.0	16.0
6	张云龙		15	62	3.0	7.0
7	张眯		1	0	0.0	0.0