GPP器件关键工艺设备制造技术研究

• 作者: 曹秀芳
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 晶圆 玻璃钝化二极管 湿法刻蚀
• 年，卷（期）: 2015,（11）
• 所属期刊栏目: 先进光刻与刻蚀
• 页码范围: 8-10
• 页数: 3页
• 分类号: TN605
• 字数: 2155字
• 语种: 中文

摘要

简要介绍了GPP二极管工艺制造流程,着重阐述了P-N结钝化玻璃保护覆层制作工艺中V型沟槽的湿法刻蚀工艺,通过溶液温度、溶液流场及晶圆旋转运动控制技术,实现沟槽湿法刻蚀深度、宽度等均匀性,从而保证玻璃覆层的厚度及附着性,提高GPP二极管的性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹秀芳	中国电子科技集团公司第四十五研究所	5	13	2.0	3.0