用于硅片清洗高浓度臭氧水产生设备研制

• 作者: 白敏菂
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 产生臭氧水设备 强电离放电 臭氧水溶液 硅片清洗应用
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 页码范围: 20-24
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.05
• 字数: 1748字
• 语种: 中文

摘要

由于高浓度臭氧水的氧化电位高达 2.07 V、反应速率常数高达2.2×106 L/(m ol·s),因而臭氧水具有无选择性快速(几秒钟)氧化分解有机污染;并能在几分钟时间内完成硅片清洗、光刻、刻蚀和成膜. 采用强电场电离放电把氧离解成高浓度O 3,再用强激励溶解方法把高浓度臭氧溶解于水中形成高浓度臭氧水,臭氧水浓度达到34.2 m g/L ,满足了硅片清洗所要求的浓度≥30 m g/L. 分别阐述了强电离放电规模制取高浓度臭氧水溶液方法;强激励溶解高浓度臭氧的理论基础;形成臭氧水溶液的工艺系统及其应用举例.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	白敏菂	大连海事大学环境工程研究所	52	615	15.0	23.0