高气压高功率条件下MPCVD法制备金刚石单晶

• 作者: 刘小利 史玉芬 周学芹 李坤
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石单晶 沉积速率 MPCVD
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 页码范围: 967-971
• 页数: 5页
• 分类号: TQ164
• 字数: 2140字
• 语种: 中文

摘要

利用自主研发的圆柱谐振腔式MPCVD设备,在工作气压28 kPa,微波功率5 kW的条件下成功制备金刚石单晶,并采用光学显微镜、激光拉曼谱(Raman)技术对样品进行表征.结果表明,在高气压高功率条件下单晶的沉积速率高达26 μm/h,且表面形貌平整.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李坤	常州大学材料科学与工程学院	13	18	3.0	3.0
2	周学芹	常州大学材料科学与工程学院	3	5	2.0	2.0
6	史玉芬	常州大学材料科学与工程学院	3	5	2.0	2.0
10	刘小利		3	5	2.0	2.0