石英坩埚内高纯隔离层在高效多晶硅铸锭中的应用

• 作者: 吴志勇 尹长浩 王梓旭 董慧 钟根香 黄新明
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 高效多晶硅 隔离层 红区
• 年，卷（期）: 2015,（9）
• 所属期刊栏目: 专题论文
• 页码范围: 2525-2528
• 页数: 4页
• 分类号: TB321
• 字数: 2653字
• 语种: 中文

摘要

多晶硅铸锭过程中,石英坩埚侧壁中的杂质通过固相扩散进入并残留在多晶硅锭的边部,形成多晶硅锭边部的低少子寿命区(边部红区).本文通过在坩埚侧壁上制作三种不同成分的高纯隔离层来阻挡坩埚侧壁中的杂质向硅锭中的扩散,以降低硅锭中的边部红区比例.结果表明采用掺钡高纯隔离层可以使硅锭中的边部红区显著变窄,基本消除硅方中的边部红区.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董慧	南京工业大学材料科学与工程学院	2	10	2.0	2.0
2	尹长浩	南京工业大学材料科学与工程学院	7	36	4.0	5.0
6	王梓旭	南京工业大学材料科学与工程学院	2	10	2.0	2.0
7	钟根香		6	37	4.0	6.0
8	黄新明	南京工业大学材料科学与工程学院	9	39	4.0	6.0
12	吴志勇	南京工业大学材料科学与工程学院	1	7	1.0	1.0