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超精密表面形貌光学测量系统
超精密表面形貌光学测量系统
作者:
傅云霞
李东升
李源
蔡潇雨
邵杨锋
雷李华
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
白光干涉测量
共聚焦测量
协调控制
三维重构
表面形貌测量
摘要:
为了解决实际测量中单一测量方法存在的局限性,结合白光干涉测量技术与共聚焦测量技术,通过紧凑型部分共光路结构原则,设计并搭建了一套超精密表面形貌光学测量系统,实现微纳米几何形貌的三维重构与测量.基于C#语言与DirectX 11开发组件,开发了上位机执行软件,实现了两种光学测量模式下硬件的协调控制及纳米标准样板表面形貌的三维重构.对台阶高度标定值为(98.8±0.6) nm的台阶标准样板进行测量,实验表明:用白光干涉测量模式和共聚焦测量模式分别实现了对台阶样板的大范围快速测量和小范围精密测量,10次测量的平均值分别为100.5和99.8 nm,标准差均小于2 nm,说明该系统能较好地满足微纳器件超精密表面形貌测量的要求.
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参数评定
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传递函数
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超精密车削
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微观形貌
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文献信息
篇名
超精密表面形貌光学测量系统
来源期刊
微纳电子技术
学科
工学
关键词
白光干涉测量
共聚焦测量
协调控制
三维重构
表面形貌测量
年,卷(期)
2016,(10)
所属期刊栏目
加工、测量与设备
研究方向
页码范围
679-684,690
页数
分类号
TB92|TH741
字数
语种
中文
DOI
10.13250/j.cnki.wndz.2016.10.007
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
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1
李东升
176
977
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19.0
2
傅云霞
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雷李华
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4
李源
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5
蔡潇雨
11
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共聚焦测量
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三维重构
表面形貌测量
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄市179信箱46分箱
邮发代号:
18-60
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
3266
总下载数(次)
22
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