多晶酸制绒添加剂对硅片绒面的影响

• 作者: 张愿成 王训春 胡彭年 赵欣侃
• 来源期刊: 电工材料
• 关键词: 多晶硅绒面 腐蚀深度 表面特征 反射率
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 所属期刊栏目: 研究·分析
• 页码范围: 3-6
• 页数: 4页
• 分类号: TM914.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.16786/j.cnki.1671-8887.eem.2016.02.001

摘要

在HNO3-HF制绒体系中加入添加剂,对硅片进行制绒,并对制绒后的硅片进行了表面形貌分析和光学性能表征.腐蚀深度结果显示,不同种类的添加剂对腐蚀速率作用不同;硅片表面反射率测试结果显示,所用添加剂对改善制绒后表面光学均匀性有积极作用.通过对添加剂组分配方的优化,在不改变制绒工艺条件的基础上制得腐蚀深度3.5～4.5 μm、表面反射率20％ ～ 21％的多晶硅片,有望使现有产线制绒效果得到改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张愿成		13	44	4.0	5.0
2	王训春		7	20	3.0	4.0
3	赵欣侃		5	17	3.0	4.0
4	胡彭年		1	6	1.0	1.0