金刚线切割多晶硅片表面减反射绒面的制备

• 作者: 刘友博 李利凯 杨德仁 汪雷
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚线切割多晶硅片 减反射 线痕 酸雾腐蚀
• 年，卷（期）: 2019,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 867-870
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.1
• 字数: 2638字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2019.06.002

摘要

为解决金刚线切割多晶硅片表面制绒的问题,提出了一种创新的两步腐蚀制备硅表面陷光结构的方法.先以浓硫酸作为添加剂去除表面线痕,然后通过酸雾腐蚀法获得一种微米纳米复合的多孔陷光结构.样品在300～1100nm波长范围内的平均光反射率被降至8.6％,减反射效果优良,少子寿命提升0.6μs以上.此方法具有操作简单,无需复杂设备,成本低等优点,易实现工业化生产.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨德仁	浙江大学材料科学与工程学院硅材料国家重点实验室	180	1513	20.0	31.0
2	汪雷	浙江大学材料科学与工程学院硅材料国家重点实验室	41	646	13.0	25.0
3	刘友博	浙江大学材料科学与工程学院硅材料国家重点实验室	1	0	0.0	0.0
4	李利凯	浙江大学材料科学与工程学院硅材料国家重点实验室	1	0	0.0	0.0