低反射率多晶硅绒面的湿法制备研究

• 作者: 岳之浩 张力典 沈鸿烈 王威 蒋晔
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: 多晶硅制绒 腐蚀时间 体积比 反射率 表面形貌
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 固态电子器件及材料
• 页码范围: 285-289
• 页数: 5页
• 分类号: TK514
• 字数: 3190字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2013.03.001

摘要

在多晶硅太阳电池制备工艺中,多晶硅表面制绒一直是研究热点,绒面的反射率以及形貌受到多个因素的影响.采用由HF,HNO3和H2O组成的腐蚀液对多晶硅进行腐蚀,研究了腐蚀时间,腐蚀液中HF与HNO3的体积比以及H2O在腐蚀液中的含量对制绒结果的影响.用分光光度计测量了制备绒面的反射率,并用扫描电镜观察了制备绒面的表面形貌.研究结果表明,腐蚀液中HF,HNO3和H2O的体积比对腐蚀坑的形貌有重要影响,而腐蚀坑形貌则决定了绒面反射率的高低.当腐蚀液中HF∶HNO3∶H20体积比为5∶1∶2且腐蚀时间为3 min时,绒面在300 nm～900 nm波长范围内平均反射率最低,仅为20.4％,这是因为绒面中窄而深的腐蚀坑增强了硅片表面对光的吸收,降低了反射率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈鸿烈	南京航空航天大学材料科学与技术学院	93	264	9.0	10.0
5	蒋晔	南京航空航天大学材料科学与技术学院	11	66	6.0	7.0
6	王威	南京航空航天大学材料科学与技术学院	23	52	4.0	5.0
7	岳之浩	南京航空航天大学材料科学与技术学院	8	19	3.0	3.0
8	张力典	南京航空航天大学材料科学与技术学院	2	7	1.0	2.0