MPCVD金刚石膜装置的研究进展

• 作者: 刘繁 孙祁 汪建华 王秋良 翁俊
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石膜 MPCVD 谐振腔
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 132-137
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 5059字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2016.03.002

摘要

微波等离子体(MPCVD)法因其独特的优势,成为高速、大面积、高质量制备金刚石膜的首选方法,MPCVD金刚石膜装置的研究受到科研人员和工业界的广泛关注.文章对金刚石膜的性质和各种制备方法进行了简要概述,论述了CVD金刚石膜的生长机理,着重阐述了各种MPCVD装置的结构特点及工作原理,并对各种装置的优、缺点进行了分析.研究结果表明:研制具有高品质因数谐振腔能激发均匀微波等离子体的MPCVD装置,是进一步开发金刚石膜工业化应用所需解决的主要问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王秋良	中国科学院电工研究所	135	676	12.0	17.0
2	汪建华	武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料重点实验室	123	698	14.0	19.0
3	翁俊	武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料重点实验室	33	102	4.0	8.0
4	刘繁	中国科学院电工研究所	22	74	4.0	8.0
6	孙祁	武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料重点实验室	15	42	3.0	6.0