基于SKILL语言的参数化抗辐射器件版图设计

• 作者: 周源 胡永强
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: SKILL 参数化单元 抗辐射 器件版图
• 年，卷（期）: 2016,（9）
• 所属期刊栏目: 电路设计
• 页码范围: 31-34,39
• 页数: 5页
• 分类号: TN402
• 字数: 1439字
• 语种: 中文

摘要

SKILL语言是IC设计业界采用的主要软件Cadence EDA提供的编程开发语言,用户可以基于SKILL语言对EDA设计环境进行定制设计或拓展.参数化单元(Parameter Cell,PCELL)可以根据设计规则(Design Rule)通过器件的W、L等参数实现对器件版图层次(Layer)的控制.另一方面抗辐射器件版图的特殊设计形式对版图设计工作提出了新的要求.阐述了通过SKILL语言实现的一款参数化抗辐射器件版图的设计理念和方法,并且在Cadence Design Framework (DFII)中编译调试和优化,实现了该版图的结构,较大幅度地提高了版图设计工作的效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡永强		7	14	2.0	3.0
2	周源		1	2	1.0	1.0