电化学沉积设备在集成电路制造中的应用及发展现状

• 作者: 刘永进
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 电化学沉积 集成电路 应用
• 年，卷（期）: 2016,（11）
• 所属期刊栏目: 趋势与展望
• 页码范围: 4-6,25
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.5
• 字数: 1224字
• 语种: 中文

摘要

根据集成电路发展的趋势,分析了电化学沉积设备在集成电路行业的应用.通过及国外各主流设备的特点及国内设备的现状阐述,指出了国内在电化学沉积设备及技术方面,与国外水平存在巨大的差距.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘永进	中国电子科技集团公司第四十五研究所	11	11	2.0	2.0