H2 O2对溶液法制备 a-IGZO 薄膜光学特性的影响

• 作者: 李勇男 殷波 汤猛 钟传杰
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: a-IGZO 薄膜 H2O2 溶液 椭圆偏振光谱 致密性
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: ?材料与器件?
• 页码范围: 1124-1130
• 页数: 7页
• 分类号: TM23
• 字数: 3470字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20163112.1124

摘要

基于溶液旋涂法和高压退火工艺制备了 a-IGZO 薄膜。采用椭圆偏振光谱分析仪以及原子力显微镜研究和分析了H 2 O 2对薄膜的表面结构和光学特性的影响。实验结果表明,a-IGZO 前驱液中不含 H 2 O 2的薄膜,退火温度从220℃升高到300℃,薄膜的光学带隙从3．03增加到3．29,而膜表面粗糙层由20．69 nm 降至4．68 nm。在同样的高压退火条件处理下,与前驱液中没加入 H 2 O 2的薄膜相比,折射率显著增加并明显的降低了薄膜表面粗糙度。退火温度在300℃时,薄膜的光学带隙由3．29 eV 增大到3．34 eV,表面粗糙层由4．68 nm 减少到2．89 nm。因此,H 2 O 2可以在相对低温条件下有效降低薄膜内部的有机物残留及微缺陷,形成更加致密的 a-IGZO 薄膜。证明了利用 H 2 O 2能够有效降低溶液法制备 a-IGZO 薄膜所需的退火温度。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟传杰	江南大学物联网工程学院	53	90	5.0	7.0
2	汤猛	江南大学物联网工程学院	5	3	1.0	1.0
3	殷波	江南大学物联网工程学院	8	30	3.0	5.0
4	李勇男	江南大学物联网工程学院	6	8	2.0	2.0