双靶反应共溅射制备WC薄膜及其电催化性能

• 作者: 唐振方 李春梅
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 双靶共溅射 溅射功率 石墨靶 电催化
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 页码范围: 968-972
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2471字
• 语种: 中文

摘要

以金属钨靶和石墨靶反应共溅射的方法,在硅片上制备碳化钨薄膜.实验探究了功率和衬底温度对薄膜成分、质量的影响.研究表明,衬底温度为400℃时,薄膜生长致密、均匀,无裂痕;当钨靶功率为55 W,逐渐增大石墨靶功率时,薄膜成分分别为W、W2C、WC1-x.经电化学研究发现W2C、WC1-x两种薄膜均对甲醇有电催化作用,且有很高的比表面积,面积为1 cm2的W2C、WC1-x薄膜电极对应的比表面积分别为33.32 cm2和64.68 cm2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐振方	暨南大学物理系	48	418	11.0	18.0
2	李春梅	暨南大学物理系	3	24	1.0	3.0