水射流抛光去除函数对面形误差修正的影响

• 作者: 吕亮 朱衡 王刚 马平 黄金勇
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 光学制造 水射流抛光 去除函数 熔石英
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 所属期刊栏目: 光学设计与制造
• 页码范围: 245-252
• 页数: 8页
• 分类号: TN205
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201643.0416003

摘要

研究了水射流抛光条件下的去除函数特征,根据去除函数的一维轮廓特征采用分段解析函数拟合方法建立了去除函数的解析表达式.根据解析表达式采用Matlab数值模拟方法对不同参数条件下的去除函数进行了一维叠加去除模拟,引入波纹度均方根值Wrms指标,对均匀去除与线性去除条件下不同参数对去除函数一维误差修正的影响进行了讨论.通过两轮水射流抛光实验,使Φ50 mm熔石英玻璃面形峰谷值λPV由0.148λ收敛至0.062λ,90％与75％口径范围分别收敛至0.048λ与0.032λ.面形均方根值λrms由18.86 nm收敛至4.87 nm,90％与75％口径范围内分别收敛至3.67 nm与3.15 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马平		54	355	11.0	15.0
2	王刚		6	21	2.0	4.0
3	黄金勇		3	4	1.0	2.0
4	朱衡		3	8	2.0	2.0
5	吕亮		1	0	0.0	0.0