极紫外光刻照明系统宽带Mo/Si多层膜设计与制备

• 作者: 喻波 李春 王春忠 金春水
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 极紫外光刻 宽带多层膜 Mo/Si多层膜
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 154-160
• 页数: 7页
• 分类号: O484.5|O434.19
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201643.0407001

摘要

针对极紫外光刻照明系统中一块小尺寸反射镜大入射角带宽的需求,采用Si层有效厚度与公转速度关系式和多层膜周期厚度与公转速度关系式,完成了宽带Mo/Si多层膜设计膜系的制备工作.在磁控溅射镀膜机上制备了一系列不同周期厚度和Γ值(Mo层厚度与多层膜周期厚度的比值)的Mo/Si多层膜规整膜系,并利用掠入射X射线反射谱表征,分别得到多层膜周期厚度、Mo层有效厚度和Si层有效厚度与公转速度的关系式以及多层膜界面粗糙度.采用Levenberg-Marquardt算法完成了宽带膜系设计,设计结果为在16.8°～24.8°范围内R=42％±1％.根据Mo/Si多层膜周期厚度和Si层有效厚度与公转速度的对应关系制备所设计的膜系,并对其极紫外波段反射率进行测量,实验结果为在16.8°～24.8°范围内R=41.2％～43.0％,实验结果与设计结果吻合得很好,进一步的制备误差反演分析表明实验结果与设计结果之间的细微偏差主要来自Mo/Si多层膜Γ值及界面粗糙度标定过程中的系统误差.