磁控溅射制备横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜

• 作者: 刘佳琪 宋竹青 张力 徐敬 朱京涛 李乙洲 涂昱淳 王占山 黄秋实
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: Mo/Si多层膜 磁控溅射 梯度多层膜 反射率 同步辐射
• 年，卷（期）: 2011,（9）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 2419-2422
• 分类号: O434
• 字数: 2242字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112309.2419

摘要

采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜.以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构,在基板65 mm长度范围内,多层膜周期从8.21 nm线性减小到6.57nm,周期梯度为0.03 nm/mm.国家同步辐射实验室反射率计的反射率测试结果表明:该横向梯度分布周期多层膜上不同位置,能反射在13.3～15.9 nm波段范围内不同波长的极紫外光,反射率为60％～65％.