磁控溅射法制备极紫外6.8~11.0nm波段Mo/B4C横向梯度多层膜

• 作者: 冀斌 崔明启 张嘉怡 朱京涛 朱圣明 李淼
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 极紫外 横向梯度多层膜 Mo/B4C 磁控溅射 同步辐射
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 16-20
• 页数: 5页
• 分类号: O434
• 字数: 411字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201830.170492

摘要

用直流磁控溅射法结合掩模板控制膜厚的方法在Si衬底上制备了工作于6.8~11.0 nm波段的[Mo/B4C]60横向梯度多层膜.利用 X射线掠入射反射测试以及同步辐射反射率测试对梯度多层膜的结构及性能进行了测试.X射线掠入射反射测试结果表明,多层膜周期厚度沿着长轴方向从4.39 nm逐渐增加到 7.82 nm,周期厚度平均梯度为0.054 nm/mm.对横向梯度多层膜沿长轴方向每隔 5 mm进行了一次同步辐射反射率测试,结果显示,横向梯度多层膜在 45°入射角下的反射率约为10%,反射峰的半高全宽介于0.13 nm到0.31 nm之间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冀斌	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	3	0	0.0	0.0
2	朱京涛	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	16	94	4.0	9.0
3	李淼	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	5	15	2.0	3.0
4	朱圣明	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	2	0	0.0	0.0
5	张嘉怡	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	1	0	0.0	0.0