磁控溅射制备极紫外高反射率多层膜应力研究

• 作者: 何世峰 冯志祥 岳帅鹏 朱京涛 涂昱淳 王风丽
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 应力 多层膜 磁控溅射 极紫外
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 228-231
• 页数: 4页
• 分类号: O434
• 字数: 2098字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201426.054002

摘要

为制备硼边附近6.7 nm波长的极紫外高反射率多层膜反射镜,研究了Mo2C/B4C,Mo/B4C周期多层膜,重点解决薄膜应力难题.采用直流磁控溅射技术制备了膜层厚度为30 nm的Mo,Mo2C,B4C单层膜,周期厚度为3.5 nm,30对的Mo2 C/B4C,Mo/B4C周期多层膜.利用台阶仪测试了镀膜前后基底面形,计算并比较了不同薄膜样品的应力值.结果表明Mo2 C/B4C多层膜压应力要远小于Mo/B4C多层膜,且成膜质量与Mo/B4C相当.因此Mo2C/B4C是应用于6.7 nm反射镜较好的多层膜材料组合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王风丽	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	27	135	7.0	9.0
2	何世峰	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	1	4	1.0	1.0
3	涂昱淳	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	3	10	2.0	3.0
4	冯志祥	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	2	4	1.0	2.0
5	岳帅鹏	同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室	4	10	2.0	3.0