极紫外多层膜残余应力初步研究

• 作者: 刘颖敏 向鹏 张立超 曹健林 金伟华 金春水
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 极紫外 多层膜 残余应力
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 377-380
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2716字
• 语种: 中文

摘要

针对极紫外多层膜在激光等离子体诊断、极紫外光刻等方面的应用,进行了Mo/Si多层膜残余应力的实验研究,讨论了多层膜残余应力的成因.实验结果表明:Mo单层膜表现为张应力, Si单层膜表现为压应力;通过传统方法制备的13.0 nm处高反射率的40对Mo/Si多层膜会产生-500 MPa左右的压应力,其压应力主要是由膜层之间的贯穿扩散引起的;通过改变膜层比率可以在一定程度上补偿因贯穿扩散产生的压应力,但是以牺牲多层膜反射率为代价.