原子层沉积制备纳米TiO2薄膜研究进展

• 作者: 冯昊 张王乐
• 来源期刊: 化工新型材料
• 关键词: 原子层沉积(ALD) TiO2薄膜 掺杂
• 年，卷（期）: 2016,（9）
• 所属期刊栏目: 综述与专论
• 页码范围: 28-29,32
• 页数: 3页
• 语种: 中文

摘要

原子层沉积技术(ALD)可制备出平滑、均匀可控的高质量薄膜,较传统制备方法而言,具有高度可控性和重现性,成为纳米二氧化钛(TiO2)薄膜制备的首要选择.从沉积温度、等离子体的增强作用、沉积载体、掺杂及应用等方面综述了ALD法制备纳米TiO2薄膜的相关研究进展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯昊		5	12	2.0	3.0
2	张王乐		2	0	0.0	0.0