钛掺杂三氧化钨薄膜结构与电致变色性能研究

• 作者: 吴岭南 宋力昕 尹小富 彭明栋 王盼盼 章俞之 胡行方
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电致变色 钛掺杂 氧化钨薄膜 结构
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 287-292
• 页数: 6页
• 分类号: TQ174
• 字数: 3430字
• 语种: 中文
• DOI: 10.15541/jim20160312

摘要

通过射频溅射法,常温下制备了纯相WO3和Ti掺杂WO3薄膜,采用XRD、SEM、Raman、电化学工作站、紫外–可见–近红外分光光度计等对薄膜的微观结构、循环稳定性、光学性能进行了表征和分析.研究发现:钛掺杂对WO3薄膜的表面形貌和光学常数影响不明显,但使薄膜的晶化温度升高.电化学测试结果表明,Ti掺杂可以提高离子在薄膜中注入/抽出的可逆性,提高薄膜的循环稳定性,同时薄膜的响应速度和光学调制性能也得到提高,掺杂后薄膜着色态和漂白态的响应时间分别由9.8、3.5 s减小为8.4、2.7 s,因此Ti掺杂WO3薄膜具有更好的电致变色性能.