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摘要:
为实现精确、稳定、快速的反应溅射镀膜工艺,降低成本,提高品质,设计基于等离子体光谱的反应溅射镀膜控制系统.通过监控反应溅射镀膜过程中等离子体的发射光谱,采用PID算法控制,实时闭环调节反应气体流量.
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文献信息
篇名 基于等离子体光谱的反应磁控溅射镀膜控制系统
来源期刊 自动化与信息工程 学科
关键词 等离子体光谱 反应磁控溅射
年,卷(期) 2017,(6) 所属期刊栏目 应用技术
研究方向 页码范围 37-39
页数 3页 分类号
字数 941字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 曹一鸣 14 16 2.0 3.0
2 蔡俊涛 16 9 2.0 2.0
3 陈霞 2 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
等离子体光谱
反应磁控溅射
研究起点
研究来源
研究分支
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相关学者/机构
期刊影响力
自动化与信息工程
双月刊
1674-2605
44-1632/TP
大16开
广州市先烈中路100号大院13号楼601《自动化与信息工程》编辑部
1980
chi
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