基于等离子体光谱的反应磁控溅射镀膜控制系统

• 作者: 曹一鸣 蔡俊涛 陈霞
• 来源期刊: 自动化与信息工程
• 关键词: 等离子体光谱 反应磁控溅射
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 所属期刊栏目: 应用技术
• 页码范围: 37-39
• 页数: 3页
• 字数: 941字
• 语种: 中文

摘要

为实现精确、稳定、快速的反应溅射镀膜工艺,降低成本,提高品质,设计基于等离子体光谱的反应溅射镀膜控制系统.通过监控反应溅射镀膜过程中等离子体的发射光谱,采用PID算法控制,实时闭环调节反应气体流量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹一鸣		14	16	2.0	3.0
2	蔡俊涛		16	9	2.0	2.0
3	陈霞		2	0	0.0	0.0