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摘要:
根据微焦点X射线数字成像检测系统在半导体行业中实际应用的要求,通过推导得出微焦点X射线数字成像检测系统的分辨率与放大倍数的数据关系式,并带入到实际的检测系统中,绘制出了系统分辨率与放大倍数关系曲线;通过曲线说明了应用在半导体行业的微焦点X射线数字成像检测系统,在一定放大倍数范围内,系统具有最佳分辨率,并通过实验的数据与理论值对比,验证了结论的正确性.
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文献信息
篇名 微焦点X射线数字成像系统的最佳分辨率
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 微焦点X射线 最佳分辨率 放大倍数
年,卷(期) 2017,(2) 所属期刊栏目 半导体制造工艺与设备
研究方向 页码范围 1-3,54
页数 4页 分类号 TN405
字数 1586字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘骏 4 8 2.0 2.0
2 杨龙 3 0 0.0 0.0
3 刘军 2 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
微焦点X射线
最佳分辨率
放大倍数
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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