蓝宝石晶片粗磨工艺的研究

• 作者: 董云娜
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 悬浮液 碳化硼 蓝宝石晶片 材料去除率
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 页码范围: 88-90
• 页数: 3页
• 分类号: TG58|TG74
• 字数: 2084字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.3.0017

摘要

采用碳化硼(粒度尺寸61 μm)作为磨料配制的研磨液对蓝宝石表面进行粗磨,并研究其工艺.通过单因素实验,选用不同悬浮液、不同研磨压力、不同质量分数碳化硼进行实验.结果表明:当碳化硼磨料质量分数为20%,悬浮液为CM-F系列,研磨液流量250 mL/min,研磨盘转速80 r/min,研磨时间30 min,研磨压力2.8×104 Pa时,研磨效果好,材料去除率可达2.47 μm/min,表面无肉眼可见划痕,在OLYMPUS-MX50下观察,晶片表面无明显划伤.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董云娜		3	8	2.0	2.0