弧电流对多弧离子镀纯Cr涂层组织性能的影响

• 作者: 刘赞 张文 曾小安 王浩然 邱长军 黄鹤
• 来源期刊: 稀有金属与硬质合金
• 学科: 工学
• 关键词: 纯Cr涂层 多弧离子镀 弧电流 SEM形貌 物相结构 膜基结合力
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 材料制备与性能研究
• 页码范围: 53-56,62
• 页数: 5页
• 分类号: TG144
• 语种: 中文

摘要

采用多弧离子镀技术在锆合金表面制备了纯Cr涂层.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和划痕仪分析了弧电流对纯Cr涂层表面形貌、物相结构以及膜基结合力的影响,并采用Image J图像处理软件对纯Cr涂层表面大颗粒分布进行统计和分析.结果表明,随着弧电流的增大,纯Cr涂层表面大颗粒尺寸先增大后减小,单位面积内大颗粒数目则先减少后增多,同时纯Cr涂层的择优生长趋势由(110)晶面变为(200)晶面,且纯Cr涂层与锆合金基材的膜基结合力先减小后增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邱长军		126	399	9.0	12.0
2	刘赞		22	97	5.0	9.0
3	张文		11	16	3.0	3.0
4	曾小安		7	16	3.0	3.0
5	王浩然		11	17	3.0	3.0
6	黄鹤		7	18	3.0	4.0