NHx(x=1~3)在金属Ir表面吸附与解离的第一性原理研究

• 作者: 肖香珍
• 来源期刊: 原子与分子物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: 密度泛函理论 NHx(x=1~3)吸附与分解 Ir表面 结构敏感性
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 原子、分子结构与光谱
• 页码范围: 617-623
• 页数: 7页
• 分类号: O641
• 字数: 3175字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0364.2017.04.006

摘要

采用密度泛函理论,在slab模型下,研究了NHx(x=1~3)在Ir(100)、Ir(111)和Ir(110)表面上的最稳定吸附位置、几何构型以及逐步脱氢分解过程,计算了相应的吸附能和活化能.计算结果表明, 在Ir(100)、Ir(111)面上,NH3是以C3轴垂直吸附在顶位,在Ir (110)上,NH3是以N-Ir键与表面成68.6°吸附在顶位,且吸附能依赖于表面的结构而不同,相比而言,NH3更容易吸附在开放表面Ir(100) 、Ir(110)面上,说明NH3在这些表面的吸附具有结构敏感性.NHx(x=1~3)的分解,在Ir(100),NH3的吸附与分解存在竞争,在Ir(110)面NH3最容易分解,在Ir(111)面NH3是分子性吸附,不能分解.NH2、NH在三个表面均能够分解,在Ir(110)面活化能均较高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖香珍	河南科技学院实验中心	12	13	3.0	3.0