扫描干涉场曝光系统中光束对准误差及其控制

• 作者: 宋莹 巴音贺希格 李文昊 潘明忠 王玮
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学设计 光栅 扫描干涉场曝光 光束对准 曝光对比度 位置解耦 角度解耦
• 年，卷（期）: 2017,（7）
• 所属期刊栏目: 光学设计与制造
• 页码范围: 239-248
• 页数: 10页
• 分类号: O436.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201737.0722003

摘要

为了提升扫描干涉场曝光光束对准精度,保证制作的光栅掩模槽形的质量,建立了曝光光束对准误差模型,利用模型对光束对准误差进行了分析.同时为了满足系统对光束重叠精度的要求,设计研制了光束自动对准系统,并对曝光光束进行了对准实验.分析结果表明,当光束存在较大对准误差时,光栅基底表面曝光对比度大幅下降,而且由于采用步进扫描的曝光方式,光刻胶表面出现了各处曝光不均匀的现象,影响光栅掩模槽形的质量.设计的对准系统可以对光束角度与位置进行对准调节,系统整体表现出良好的收敛性能,多步调节后可使光束位置对准精度优于10 μm,光束角度对准精度优于9 μrad.这样的曝光光束对准精度可以满足系统要求,达到了预期的设计目的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴音贺希格	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	112	817	16.0	23.0
2	潘明忠	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	26	176	8.0	12.0
3	李文昊	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	35	144	7.0	11.0
4	王玮	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	30	308	9.0	17.0
5	宋莹	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	20	176	5.0	13.0