上海微系统所石墨烯／六方氮化硼平面异质结研究获进展

• 来源期刊: 磨料磨具通讯
• 学科: 化学
• 关键词: 六方氮化硼 异质结 微系统 平面 石墨 上海 化学气相沉积 光电探测器件
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 页码范围: 18-18
• 页数: 1页
• 分类号: O613.81

摘要

中国科学院上海微系统与信息技术研究所石墨烯／六方氨化硼平面异质结研究取得新进展。研究员谢晓明领导的研究团队采用化学气相沉积（CVD）方法成功制备出单原子层高质量石墨烯／六方氮化硼平面异质结，并将其成功应用于WSe2／MoS2二维光电探测器件。