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摘要:
在半导体制造领域中,IC装备工艺腔室流场的均匀性决定镀膜的质量.本文运用二维激光多普勒测速仪(LDV)对真空腔室进行内流场测量,研究了在不同进气量、不同腔室压强下,腔室各平面流速的分布规律.研究表明,粒子浓度和背景噪声是影响腔室流速测量的两大关键因素,采用四种方法有效地降低了背景噪声对信号的干扰;通过大量实验得出了LDV有效测量腔室流速的压力范围,以及腔室压强、进气量与流速之间的关系;验证了腔室内二级匀气装置具有均匀布气的功能.研究结果能为IC装备的设计提供数据支持.
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文献信息
篇名 基于二维LDV低压流场速度测量的研究
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 工学
关键词 二维激光多普勒测速仪 真空腔室 粒子浓度 背景噪声 流速测量
年,卷(期) 2018,(3) 所属期刊栏目 真空技术与理论
研究方向 页码范围 169-175
页数 7页 分类号 TB75
字数 语种 中文
DOI 10.13922/j.cnki.cjovst.2018.03.01
五维指标
作者信息
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1 黄尊地 五邑大学轨道交通学院 23 37 3.0 4.0
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研究主题发展历程
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二维激光多普勒测速仪
真空腔室
粒子浓度
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流速测量
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真空科学与技术学报
月刊
1672-7126
11-5177/TB
大16开
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
1981
chi
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