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碳化硅MOSFET特征参数随温度变化的比较研究
碳化硅MOSFET特征参数随温度变化的比较研究
作者:
杨树
江芙蓉
盛况
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
SiCMOSFET
温度
导通电阻
阈值电压
迁移率
界面态
摘要:
通过对Cree公司三代SiC MOSFET样品在-160~200℃温度下进行测试,提取出每代器件在不同温度下的阈值电压、导通电阻等特征参数.分析比较了三代产品阈值电压、导通电阻随温度的变化趋势,以及不同温度下导通电阻与栅极电压的关系.运用建立物理模型的方法,对三代产品阈值电压、导通电阻各组成部分与温度的关系进行了比较研究.解释了SiC MOSFET的阈值电压的温度变化率随产品更新而逐代降低的原因,是栅极SiO2/SiC界面存在的陷阱密度在逐代地下降.通过TCAD仿真拟合转移特性随温度的变化,验证了新产品的界面态密度的降低,同时佐证了SiC MOSFET的技术水平在近几年有显著提升.
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文献信息
篇名
碳化硅MOSFET特征参数随温度变化的比较研究
来源期刊
电源学报
学科
工学
关键词
SiCMOSFET
温度
导通电阻
阈值电压
迁移率
界面态
年,卷(期)
2018,(6)
所属期刊栏目
功率器件
研究方向
页码范围
143-151
页数
9页
分类号
TM86
字数
5596字
语种
中文
DOI
10.13234/j.issn.2095-2805.2018.6.143
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
盛况
浙江大学电气工程学院
28
745
8.0
27.0
2
江芙蓉
浙江大学电气工程学院
1
1
1.0
1.0
3
杨树
浙江大学电气工程学院
2
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研究主题发展历程
节点文献
SiCMOSFET
温度
导通电阻
阈值电压
迁移率
界面态
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电源学报
主办单位:
中国电源学会国家海洋技术中心
出版周期:
双月刊
ISSN:
2095-2805
CN:
12-1420/TM
开本:
大16开
出版地:
天津市南开区黄河道467号大通大厦16层
邮发代号:
创刊时间:
2002
语种:
chi
出版文献量(篇)
1407
总下载数(次)
6
总被引数(次)
6404
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