高硅基质中杂质元素磷的质谱分析

• 作者: 李坦平 聂西度 谢华林
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 化学
• 关键词: 高硅基质 电感耦合等离子体串联质谱 碰撞/反应池 磷 H2
• 年，卷（期）: 2018,（11）
• 所属期刊栏目: 研究快报
• 页码范围: 3541-3544,3550
• 页数: 5页
• 分类号: O657.63
• 字数: 3574字
• 语种: 中文

摘要

基于电感耦合等离子体串联质谱(ICP-MS/MS)法发展了准确精密测定高硅基质样品中杂质元素磷的新方法.采用氢氟酸+硝酸混合溶剂对高硅基质样品进行微波辅助消解,最大程度地避免污染并降低分析过程中的空白.针对测定过程中存在的质谱干扰,对比研究了利用He为碰撞气、O2和H2为反应气在不同模式下消除干扰.在MS/MS模式下,采用O2为反应气时不能消除所有的干扰,采用H2为反应气,在碰撞/反应池(CRC)内P+与H2发生反应形成PH+4,可以实现磷的无干扰测定.优化了CRC中最佳的H2反应气流速,选择Sc为内标元素校正了基体效应.采用高硅基质国家标准参考物质(石英岩GBW07837、工业硅GBW(E)010359、石英砂岩GBW07106)验证方法的准确性和精密度,采用t检验法对标准物质的测定值与认证值进行统计学分析,发现所有结果均无显著性差异,验证了方法具有良好的准确性.磷的检出限为96.1 ng/L.方法可用于高硅基质中磷的快速准确分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李坦平	湖南工学院新型建筑材料研究院	47	112	6.0	9.0
2	聂西度	湖南工学院新型建筑材料研究院	62	303	10.0	13.0
3	谢华林	长江师范学院化学化工学院	46	222	7.0	13.0