半导体单晶抛光片清洗技术分析

• 作者: 张凇铭
• 来源期刊: 电子测试
• 关键词: 半导体 单晶抛光片 清洗技术
• 年，卷（期）: 2018,（18）
• 所属期刊栏目: 科技论坛
• 页码范围: 129,131
• 页数: 2页
• 字数: 1956字
• 语种: 中文

摘要

本文以半导体单晶抛光片清洗原理为入手点,结合铬、砷化镓、硅等半导体单晶抛光片污染物质来源,对半导体单晶抛光片清洗技术进行了简单的分析,以便为半导体单晶抛光片清洗效率的提升提供依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张凇铭		1	0	0.0	0.0