超精密光栅尺位移测量系统

• 作者: 党宝生 张文涛 熊显名 王献英
• 来源期刊: 激光杂志
• 学科: 物理学
• 关键词: 光刻机 位移测量 光栅尺 测量一致性
• 年，卷（期）: 2018,（9）
• 所属期刊栏目: 光学应用与系统
• 页码范围: 42-46
• 页数: 5页
• 分类号: O436.13
• 语种: 中文
• DOI: 10.14016/j.cnki.jgzz.2018.09.042

摘要

针对光刻机运动台位移测量需求,研究了利用二次衍射光干涉的对称式光栅尺位移测量系统.基于多普勒效应分析了光栅尺的位移测量原理,推导了光栅尺位移测量模型.设计了基于商用双频激光干涉仪的测量对比实验平台,开展了光栅尺位移测量系统原理验证实验、测量一致性实验和测量稳定性实验.实验结果分别表明:光栅尺位移测量系统原理正确;光栅尺和激光干涉仪位移测量系统间测量结果的差值小于16.67nm的置信度为0.95,具有良好测量一致性;光栅尺位移测量系统具有较好的抗干扰能力,鲁棒性强,能够满足光刻机运动台位移测量需求.