浅述化学气相沉积技术及其应用

• 作者: 任韵希
• 来源期刊: 赤子
• 关键词: 化学气相沉积技术 CVD 应用
• 年，卷（期）: 2018,（33）
• 所属期刊栏目: 社科纵横
• 页码范围: 279
• 页数: 1页
• 字数: 2001字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-6035.2018.33.266

摘要

化学气相沉积(CVD)技术是指反应物质在气态条件下发生化学反应,生成固态物质沉积在加热的固态基体表面,进而制得固体材料的工艺技术.它可以在不改变基体材料的成份和不削弱基体材料的强度的条件下,赋予材料表面特殊的性能,满足工程实际中对材料的要求.如CVD技术可以生长高质量的单晶薄膜,能够获得所需的掺杂类型和厚度,易于实现大批量生产,因而在工业上得到广泛的应用.本文主要对化学气相沉积技术的基本原理、特点及其主要应用做简要概述,并展望其应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任韵希		2	1	1.0	1.0