氧化锌薄膜体声波谐振器制作重复性和均匀性

• 作者: 付学成 刘千慧 张亚非 张虎 杨志 段力 翁昊天 陈熙 陈益钢 高明
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜体声波谐振器(FBAR) 氧化锌(ZnO) 谐振频率 射频磁控溅射 集成电路
• 年，卷（期）: 2019,（12）
• 所属期刊栏目: MEMS与传感器
• 页码范围: 984-991
• 页数: 8页
• 分类号: TN61|TN389
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2019.12.007

摘要

通过磁控溅射靶材的成分调控和一系列优化过的微电子机械系统(MEMS)工艺,成功研制了基于氧化锌(ZnO)压电薄膜的固体装配型薄膜体声波谐振器(FBAR).通过使用性能优异的靶材,所得到的器件谐振性能良好.在同一种工艺条件下得到多个硅片的中心处FBAR的谐振频率为2.365～2.379 GHz,具有较好的重复性.并且,同一硅片不同位置的器件性能还具有优异的均匀性,S1,的平均相对误差很小.尤其谐振频率可以控制在2.359～2.410 GHz,相比之前的1.8～2.4 GHz,其均匀性有了明显的提升.同一硅片上9个FBAR谐振频率的平均相对误差能够低至0.256％.